Método fotoquímico para la preparación de películas delgadas de ZnO y su potencial aplicación como fotoconductor

Abstract

Mediante el método de deposición fotoquímica, se depositaron capas de un complejo metálico β-dicetonato de Zn sobre sustratos de Si (100). Para ello se utilizo la técnica de spin- coating, que consiste en la dispensión de soluciones del complejo, sobre el sustrato que se encuentra sobre un dispensador rotatorio que gira a 1500 rpm. Las que posteriormente fueron irradiadas bajo luz UV para generar la película del óxido metálico respectivo. El objetivo de este trabajo es la deposición de múltiples capas de ZnO sobre sustratos de Si (100) y estudiar su comportamiento fotoeléctrico. Los depósitos obtenidos por esta metodología, fueron caracterizadas en su composición mediante técnicas superficiales de análisis, tales como espectroscopia Foto-electrónica de rayos X (XPS) y en su morfología por microscopía de fuerza atómica (AFM). Finalmente se estudiaron las propiedades fotoconductoras de las películas depositadas.